6387 サムコ 企業サイト   Yahooファイナンス 日経新聞 株探 四季報

基本データ
【業種】機械
【市場】プライム(内国株式)
【決算期】7月
【会社設立】1979.9
【上場】2001.5
【直近決算日】2024-09-11
【決算予定日】2024-12-09 (15:30)

【時価総額】236億3800万円
【予想PER】15.43 倍
【PBR】1.92 倍
【自己資本比率】76.3 %
業績予想(通期のみ)
年度タイプ日付売上高営業利益経常利益純利益
2023-07新規2022-09-087700162015801080
2024-07新規2023-09-118500199020101370
来期新規2024-09-119500222022401530

年月

事項

1979年9月

半導体製造装置の製造及び販売を目的として株式会社サムコインターナショナル研究所を設立

1980年7月

国産初のプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)装置の開発、販売を開始

1984年7月

東京都品川区に東京出張所(現東日本営業部)を開設

1985年6月

京都市伏見区竹田田中宮町33番地(現藁屋町36番地)に本社を移転

1987年2月

米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所を開設

1991年3月

京都市伏見区に研究開発センターを開設

1993年2月

茨城県土浦市につくば出張所(現つくば営業所)を開設

1993年9月

愛知県愛知郡長久手町に東海営業所(現東海支店、2020年1月に名古屋市へ移転)を開設

1995年7月

薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術を開発

1997年11月

キリンビール株式会社と共同で、プラスチックボトルにDLC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)膜を形成する技術を開発

1999年7月

サムコエンジニアリング株式会社より、サービス部門の営業を譲受け

2001年5月

日本証券業協会に株式を店頭上場

公募増資により資本金を1,213,787千円に増資

2001年7月

台湾新竹市に台湾事務所を開設(2009年1月に閉鎖)

2002年7月

生産技術研究棟(京都市伏見区)の改修工事完了

2003年12月

(独)ロバート・ボッシュ社よりシリコンの高速ディープエッチング技術を導入

2004年11月

中国上海市に上海事務所を開設

2004年12月

株式会社サムコインターナショナル研究所からサムコ 株式会社へ社名を変更

2004年12月

株式売買単位を1,000株から100株に変更

2004年12月

日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場

2005年9月

英国ケンブリッジ大学との共同開発「強誘電体ナノチューブの量産技術」を英企業に技術供与

2006年3月

製品サービスセンターを新設

2006年9月

中国清華大学とナノ加工技術の共同研究で調印

2008年3月

京都市伏見区に第二研究開発棟を開設

2008年10月

台湾に保守サービスのための現地法人「莎姆克股份有限公司」を設立

2009年1月

「莎姆克股份有限公司」が営業を開始

2010年4月

ジャスダック証券取引所と大阪証券取引所の合併に伴い、大阪証券取引所JASDAQ市場(2013年7月より東京証券取引所JASDAQ(スタンダード))に上場

2010年8月

米国ノースカロライナ州に米国東部事務所を開設(2014年5月にニューヨーク州へ移転、2017年1月にニュージャージー州へ移転)

2010年9月

中国北京市に北京事務所を開設

2013年7月

東京証券取引所JASDAQ(スタンダード)から市場第二部へ市場変更

2013年10月

SiCパワーデバイス向け本格量産用ドライエッチング装置RIE-600iPCの開発、販売を開始

2013年11月

MEMS向け本格量産用ドライエッチング装置RIE-800iPBCの開発、販売を開始

2014年1月

東京証券取引所市場第二部から同第一部銘柄に指定

2014年5月

リヒテンシュタイン公国UCP Processing Ltd.を子会社化(samco-ucp AGに社名変更)

2015年9月

公募増資により資本金を1,663,687千円に増資

2015年12月

電子デバイス向け原子層堆積装置AL-1の開発、販売を開始

2016年6月

第二生産技術棟(京都市伏見区)が完成

2016年8月

マレーシアにマレーシア事務所を開設

2016年9月

Aqua Plasmaを用いたプラズマ洗浄装置AQ-2000の開発、販売を開始

2018年12月

ドライエッチング装置RIE-200iPNの開発、販売を開始

2020年7月

第二生産技術棟内にCVD装置のデモルームを開設

2021年1月

新型コロナウイルス不活化技術を完成

2021年12月

電子デバイス製造向けクラスターツールシステム「クラスターHTM」の販売を開始

2022年3月

第二研究開発棟内にナノ薄膜開発センターを立ち上げ(2024年9月に技術開発統括部プロセス開発2部に統合)

2022年4月

東京証券取引所の市場区分の見直しにより、東京証券取引所市場第一部からプライム市場へ移行