6677 エスケーエレクトロニクス 企業サイト   Yahooファイナンス 日経新聞 株探 四季報

基本データ
【業種】電気機器
【市場】スタンダード(内国株式)
【決算期】9月
【会社設立】2001.10
【上場】2003.9
【直近決算日】2024-11-11
【決算予定日】

【時価総額】221億6800万円
【予想PER】8.8 倍
【PBR】0.63 倍
【自己資本比率】81.1 %
業績予想(通期のみ)
年度タイプ日付売上高営業利益経常利益純利益
2023-09新規2022-11-1425000280028001700
修正2023-02-1327500(↑)4300(↑)4000(↑)2500(↑)
修正2023-08-1427600(↑)4600(↑)4600(↑)3000(↑)
2024-09新規2023-11-1330100520052003500
修正2024-08-1326600(↓)3300(↓)3450(↓)2450(↓)
来期新規2024-11-1129000310031002300
当社は、2001年10月1日に株式会社写真化学のエレクトロニクス事業部門に属する権利義務を承継し、会社分割により設立いたしました。
この会社分割は、これまで多角的な事業展開を行ってきた株式会社写真化学が、各々の業界に対し機動的な事業運営を行い、かつ事業特性を生かした経営に特化することで、各会社の企業価値を高めることを目的としたものであります。
当社の設立以後の企業集団に係る経緯は、以下のとおりであります。

年月

概要

2001年10月

(株)写真化学のエレクトロニクス事業部門を会社分割により独立させ、京都市上京区に当社を設立。

2002年5月

台湾に大型フォトマスクの製造・販売会社として、連結子会社「頂正科技股份有限公司」を設立。

2002年9月

久御山事業所(現:京都工場)において「ISO14001」認証取得。

2003年9月

日本証券業協会(現:東京証券取引所)に店頭登録銘柄として登録。

2004年7月

頂正科技股份有限公司において「ISO9001」認証取得。

2004年12月

日本証券業協会への店頭登録を取り消し、大阪証券取引所JASDAQ(現:東京証券取引所スタンダード市場)に株式を上場。

2005年1月

久御山事業所(現:京都工場)に世界初の第8世代対応の新工場竣工。

2005年11月

韓国に大型フォトマスクの販売会社として、連結子会社「SKE KOREA CO.,LTD.」を設立。

2008年11月

世界初の第10世代、第11世代対応の滋賀工場竣工。

2008年12月

頂正科技股份有限公司において「ISO14001」認証取得。

2009年3月

世界初の第10世代用フォトマスクの生産、出荷開始。

2010年9月

中国に販売会社として、連結子会社「愛史科電子貿易(上海)有限公司」を設立。

2011年9月

滋賀工場において、「ISO14001」拡張認証取得。

2012年11月

京都工場において「OHSAS18001」認証取得。

2013年12月

台湾に頂正科技股份有限公司の営業拠点として、台北支社を開設。

2014年7月

各種オフセット印刷向けガラスドライエッチング版の販売を開始。

2014年10月

京都府から「第二種医療機器製造販売業」の業許可を取得。

2016年6月

高度管理医療機器等販売業・貸与許可証取得(医療機関QMS)

2017年6月

「電気刺激装置 WILMO」の販売開始。

2018年6月

「ピッキングタグ」の販売開始。

2019年3月

本社、京都工場において「ISO13485」認証取得。

2020年8月

京都工場において「ISO45001」認証取得。

2020年9月

「デジタルコルポスコープQ-CO」の販売開始。

2022年5月

「エクストリームタグ」の販売開始。


(参考)
(株)写真化学における概要について記載いたします。

年月

概要

明治初頭

石田才次郎(当社取締役相談役石田敬輔の曾祖父)が銅版彫刻印刷を手掛け、石田旭山印刷所として事業開始。

1934年3月

石田旭山印刷(株)(現:(株)写真化学)を設立。

1937年5月

ガラススクリーン研究部門を分離(1943年10月、法人化により大日本スクリーン製造(株)(現(株)SCREENホールディングス)として設立)。

1964年3月

本店を移転(京都市上京区)。

1970年5月

商号を(株)写真化学に変更。

1971年9月

エレクトロニクス事業部門(現:当社事業)を新設。

1981年12月

久御山事業所(現:京都工場)を開設。

1988年3月

久御山事業所(現:京都工場)に新工場(現:当社大型フォトマスク事業)を増設。

世界初の大型EB描画装置を導入。

1995年9月

工場・設備を一新し、業界に先駆けて、800mmサイズの大型フォトマスク製造を実現。

1999年4月

電子事業部(現:当社大型フォトマスク事業)において「ISO9002(現・ISO9001)」認証取得。