1926年９月

信濃電気株式会社と日本窒素肥料株式会社との共同出資により、信越窒素肥料株式会社として発足

1927年11月

新潟県中頸城郡（現上越市）に直江津工場を建設、石灰窒素の製造開始

1938年12月

群馬県安中市に磯部工場を建設、金属マンガンの製造開始

1940年３月

社名を信越化学工業株式会社に変更

1945年５月

大同化学工業株式会社を吸収合併し、福井県武生市（現越前市）の同社工場を当社武生工場として石灰窒素等の製造開始

1949年５月

東京証券取引所に株式を上場

1953年10月

磯部工場において珪素樹脂（シリコーン）の製造開始

1957年３月

直江津工場においてアセチレン法による塩化ビニル、か性ソーダの製造開始

1959年４月

直江津工場において天然ガス塩素化製品の製造開始

1960年７月

磯部工場において半導体シリコンの製造開始

1960年９月

信越ポリマー株式会社（合成樹脂の加工　現連結子会社）を設立

1962年３月

直江津工場においてセルロース誘導体（メトローズ等）の製造開始

1967年３月

信越半導体株式会社（半導体シリコンの製造　現連結子会社）を設立

1967年４月

信越石油化学工業株式会社（メタノール等の製造）を吸収合併

武生工場においてイットリウム等高純度レア・アースの製造開始

1968年12月

信越酢酸ビニル株式会社（現日本酢ビ・ポバール株式会社　酢酸ビニルモノマー及びポバールの製造　現連結子会社）を設立

1970年８月

茨城県鹿島郡（現神栖市）に鹿島工場を建設、エチレン法による塩化ビニルの製造開始

1973年２月

武生工場において希土類磁石の製造開始

1973年７月

シンテックINC.（塩化ビニルの製造　現連結子会社）を米国に設立

信越半導体株式会社の子会社としてS.E.H.マレーシアSDN.BHD.（半導体シリコンの加工　現連結子会社）をマレーシアに設立

1976年４月

工務部門を分離して信越エンジニアリング株式会社（現連結子会社）を設立

1979年３月

信越半導体株式会社の子会社としてシンエツハンドウタイアメリカInc.（半導体シリコンの製造　現連結子会社）を米国に設立

1979年10月

直江津工場において合成石英製ＩＣフォトマスク用基板の製造開始

1983年11月

磯部工場において光ファイバー用プリフォームの製造開始

1983年12月

信越ポリマー株式会社、東京証券取引所に株式を上場

1984年５月

信越半導体株式会社の子会社としてシンエツハンドウタイヨーロッパLTD.（半導体シリコンの加工　現連結子会社）を英国に設立

1992年４月

直江津工場においてフォトレジスト製品の製造開始

1992年８月

群馬県碓氷郡（現安中市）に松井田工場を設置し、同工場と磯部工場とを統轄する群馬事業所を群馬県安中市に新設

1995年11月

信越半導体株式会社の子会社として台湾信越半導体股份有限公司（半導体シリコンの加工　現連結子会社）を台湾に設立

1999年12月

シンエツPVC B.V.（オランダ　現連結子会社）がシェルネーデルランドケミーB.V.（オランダ）及びアクゾノーベルベイスケミカルズB.V.（オランダ）の塩化ビニル合弁事業を買収

2000年10月

信越金属工業株式会社を吸収合併

2001年２月

アジアシリコーンズモノマーLtd.（シリコーンモノマーの製造　現連結子会社）をタイに設立

シンエツシリコーンズタイランドLtd.（シリコーンの製造　現連結子会社）をタイに設立

2003年12月

シンエツインターナショナルヨーロッパB.V.(オランダ　現連結子会社)がドイツのセルロース事業会社クラリアント タイローズGmbH & Co. KG（現SE タイローズ GmbH & Co. KG　現連結子会社）を買収

2005年７月

直江津工場においてマスクブランクスの製造開始

2013年５月

シンエツシリコーンズタイランドLtd.がアジアシリコーンズモノマーLtd.を完全子会社化

2020年３月

シンテックINC.においてエチレンの製造開始

2024年11月

三益半導体工業株式会社（半導体シリコンの加工　現連結子会社）を完全子会社化