1985年5月

東京都新宿区に(株)ホロンを設立 資本金33,000千円

1985年11月

東京都狛江市にテクニカルセンターを設立

1986年10月

電子ビーム微小寸法測定装置(ESPA-11)を開発・発表

1989年12月

電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-21を発表

1992年9月

電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-31を発表

1995年12月

電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-51を発表

1996年3月

テクニカルセンターを狛江市から埼玉県所沢市に新設・移転

1997年12月

電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-61を発表

1998年12月

マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-200、-300を開発・発表
ステンシルマスク検査技術(特許)を確立、発表

1999年1月

EMU-200を海外に出荷開始

12月

磁気ヘッド形状測定装置EMR-100を完成
電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-71を発表

2000年12月

マスク用電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、EMU-220、-330を発表

2002年9月

マスク用電子ビーム微小寸法測定装置、海外向けバージョンとしてEMU-220Aを発表

2003年4月

EMU-220A、海外に出荷開始

本社ビル移転(東京都新宿区は変わらず)

2004年4月

韓国支店を開設

10月

マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-250を開発・発表

2005年2月

株式会社ジャスダック証券取引所に上場(現 東京証券取引所JASDAQ)

8月

マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-270を開発・発表

2006年11月

LED(発光ダイオード)生産用パターン転写装置電子スタンパーEBLITHOを開発・発表

2009年1月

マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-270Aを開発・発表

7月

本社を東京都新宿区から埼玉県所沢市に移転

8月

NEDO助成事業に2件採択「電子ビーム式次世代パターン高速検査装置の開発」「シームレスモールドステッパー製作とその実デバイス量産性能評価」

2010年11月

EMUシリーズをモデルチェンジし、Z7を発表

12月

ロールモールド評価用SEM(Roll-SEM)を開発

2011年2月

nano tech大賞2011 微細加工技術部門賞を受賞(Roll-SEM)

2013年5月

NEDO助成事業に採択「大気開放型SEMを組み込んだ大型ロール検査装置の開発」

11月

EDS分析のLEXa-7を発表

2014年5月

NEDO助成事業に採択「NILナノパターンの観察計測ができる高分解能CD-SEMの開発」

2015年12月

ウエハ用CD-SEM ESPA-3000シリーズを開発・発表

2016年3月

品質マネジメントシステムISO9001認証取得

2017年1月

デバイス用マスクCD-SEMをモデルチェンジし、ZXを発表・発売開始

フォトマスク用DR-SEMの高機能版LEXa-10HRを発表

2018年6月

株式会社エー・アンド・デイの連結子会社となる